한국재료연구원(이하 재료연) 세라믹재료연구본부 송인혁 박사 연구팀이 '세라믹 압출 공정 및 졸겔 코팅 공정에 의한 한외여과급 세라믹 분리막 제조 기술'을 국내 환경 분야 기업 파인텍에 이전 했다고 27일 밝혔다.
이 기술은 10나노미터급의 기공 구조를 가지는 한외여과 세라믹 분리막 제조 기술이다.
일반적인 고분자 분리막은 열적, 화학적 안정성이 낮아 응용 범위가 제한된다는 단점을 가지지만, 재료연이 개발한 세라믹 분리막은 이러한 단점을 모두 보완한 새로운 압출형 분리막이다.
반도체·전자산업용 폐수처리를 1차 목표로 제조 전 공정에 걸쳐 요구되는 산업용수를 목표 수질에 알맞게 공급하기 위해 개발됐다.
기존 수처리 기술로 제거가 어려운 오염물질 및 CMP 공정 폐슬러지를 10나노미터급 세라믹 분리막을 이용해 효과적으로 제거할 수 있다.
향후 일반적인 수처리뿐만 아니라 증류, 흡착, 추출 등의 대체기술로써, 고온, 고압, 산·염기, 유기용매 환경의 반도체, 제약, 식품, 제지, 발전 등 다양한 극한 운용 조건을 요구하는 시장으로까지 영역 확대가 가능하다.
파인텍은 이번 기술이전을 통해 해외 기업 주도 기술을 국산화하고, 신뢰성·친환경성·양산성·효율성에 초점을 맞춰 신제품을 개발하고, 시장 점유율도 단계적으로 확대할 계획이다.
송인혁 책임연구원은 "10나노미터급 세라믹 분리막 제조 원천기술을 개발하고 이의 실용화 가능성을 열었다는 데에 큰 의미가 있다"며 "향후 산업 및 생활 폐수뿐만 아니라 화학, 바이오, 제약 산업, 자원 회수 등 다양한 전략 핵심 분야에 활용될 요소기술로 적용될 수 있을 것으로 기대한다"고 말했다.
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일반적인 고분자 분리막은 열적, 화학적 안정성이 낮아 응용 범위가 제한된다는 단점을 가지지만, 재료연이 개발한 세라믹 분리막은 이러한 단점을 모두 보완한 새로운 압출형 분리막이다.
반도체·전자산업용 폐수처리를 1차 목표로 제조 전 공정에 걸쳐 요구되는 산업용수를 목표 수질에 알맞게 공급하기 위해 개발됐다.
기존 수처리 기술로 제거가 어려운 오염물질 및 CMP 공정 폐슬러지를 10나노미터급 세라믹 분리막을 이용해 효과적으로 제거할 수 있다.
향후 일반적인 수처리뿐만 아니라 증류, 흡착, 추출 등의 대체기술로써, 고온, 고압, 산·염기, 유기용매 환경의 반도체, 제약, 식품, 제지, 발전 등 다양한 극한 운용 조건을 요구하는 시장으로까지 영역 확대가 가능하다.
파인텍은 이번 기술이전을 통해 해외 기업 주도 기술을 국산화하고, 신뢰성·친환경성·양산성·효율성에 초점을 맞춰 신제품을 개발하고, 시장 점유율도 단계적으로 확대할 계획이다.
송인혁 책임연구원은 "10나노미터급 세라믹 분리막 제조 원천기술을 개발하고 이의 실용화 가능성을 열었다는 데에 큰 의미가 있다"며 "향후 산업 및 생활 폐수뿐만 아니라 화학, 바이오, 제약 산업, 자원 회수 등 다양한 전략 핵심 분야에 활용될 요소기술로 적용될 수 있을 것으로 기대한다"고 말했다.
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- 기자 사진 류준영 차장 joon@mt.co.kr 다른 기사 보기
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