반도체 제조장비 내부 오염 입자 줄이는 '내플라즈마성 소재' 국산화

류준영 기자 기사 입력 2023.03.22 10:24

URL이 복사되었습니다. 원하는 곳에 붙여넣기 해주세요.

공유하기
글자크기

재료연,'내플라즈마성 세라믹 나노복합체 신조성 및 공정 기술' 국내 최초 개발

(왼쪽부터) 한국재료연구원 마호진 박사, 박영조 박사
(왼쪽부터) 한국재료연구원 마호진 박사, 박영조 박사
한국재료연구원(이하 재료연) 엔지니어링세라믹연구실 마호진, 박영조 박사 연구팀이 반도체 제조 장비 내부 오염 입자를 줄이는 '내플라즈마성 세라믹 나노복합체 신조성 및 공정' 기술을 개발, 반도체의 정밀 부품 제조사 맥테크에 기술이전 했다고 22일 밝혔다.

일반적인 반도체 공정은 플라즈마를 이용한 식각 공정으로 이뤄진다. 이 과정에서 실리콘 웨이퍼와 장비의 내부 부품까지 플라즈마에 노출돼 오염 입자를 생성하는데 이는 칩 불량 발생의 원인이 된다.

또 장비 내부 소재의 90% 이상을 차지하는 세라믹 부품의 잦은 교체는 반도체 생산성을 저해하는 원인이 되기도 한다.

연구팀은 기존의 단일 조성 세라믹이 아닌 나노복합체를 이용해 이트리아-마그네시아(Y2O3-MgO) 소재를 10나노미터(㎚) 크기의 입자로 합성하고, 무기공 치밀체 소결 공정 기술을 통해 100% 밀도의 완전 치밀체를 제작했다.

식각율이 작을수록 우수한 소재인데, 개발된 나노복합체는 사파이어와 비교하면 6.5%, 플라즈마 저항성이 가장 우수하다고 알려진 이트리아(Y2O3)와 비교해서도 40% 정도에 불과했다.

이외 연구팀은 나노복합체의 미세구조 내 결정립 크기와 기공도에 따라 플라즈마 식각 후에 나타나는 표면 변화를 분석하고, 미세하고 균일한 미세구조 분포를 가진 나노복합체가 우수한 식각 저항성과 적은 표면 조도 변화를 가져온다는 사실을 확인했다.

마호진 재료연 선임연구원은 "반도체 전 공정 중 식각 공정은 미국과 일본의 장비.부품이 90% 이상을 장악하고 있으며 이를 중국이 빠르게 추격하는 추세"라며 "이번 성과는 세계 최고 수준의 내플라즈마성 소재를 국내 기술로 개발한 대표적 사례임과 동시에 소재 자립화를 통해 부품을 국산화하는 초석이 될 것"이라고 말했다.

머니투데이 스타트업 미디어 플랫폼 '유니콘팩토리'

'한국재료연구원' 기업 주요 기사

기사 더보기

관련기사

한국재료연구원 이정환 기타 유니콘팩토리

<저작권자 © ‘돈이 보이는 리얼타임 뉴스’ 머니투데이. 무단전재 및 재배포, AI학습 이용 금지>

이 기사 어땠나요?

이 시각 많이 보는 기사

  1. 1 녹슨 선로에 들어선 '첨단실증 백화점'…초격차 신기술 키운다
  2. 2 경쟁 치열한 '이산화탄소 미니발전소', 국내 개발 완료 눈앞
  3. 3 스마트폰으로 식품 신선도 측정…생기원 '황화수소 가스 센서' 개발
  4. 4 로봇이 걸어오더니 몸에 '착'…하반신 마비 장애인, 스스로 일어났다
  5. 5 클릭 한번에 1시간 영상, 30초 요약...숏폼 세상 키우는 AI
  6. 6 20% 가벼운 고밀도 2차전지...ETRI, 집전체 제거한 셀 설계
  7. 7 와이어 없이 쉽고 안전하게 척!…자율운항선박이 자동 정박한다
  8. 8 무슨 기술이길래...VC 15곳이 동시에 800억 베팅한 스타트업
  9. 9 KAIST 사족보행 로봇 '라이보2', 마라톤 풀코스 도전한다
  10. 10 UNIST, 전기 덜먹고 발열 줄인 'M램' 메모리 반도체 기술 개발